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1.中心加載力方式,一次性固定六個樣品,完成全部研磨拋光過程,保證磨拋出各個樣品的完整平面
2.獨立控制磨拋盤和樣品盤:轉速、磨拋時間、轉動方向、水閥關閉等全部磨拋參數;
3.觸摸屏界面:磨拋參數設定方便,狀態顯示直觀,操作簡單;
4.加載力可以在運行中調整,靈活方便。
5.通過用電磁閥來控制水的通斷。
6.輕松更換磁性防粘盤,就能完成各種試樣的粗、精磨及粗、精拋光等所有工序, 一盤等效于N個盤。
7.精度高,運行平穩,噪音低。
8.樣品磨去層厚度控制:精準控制樣品的磨去量,磨到指定位置 (選配);
9.外部滴液器控制:外部滴液器的滴液速度及滴液材料 (選配);
規格 |
LAP-2000X |
工位 |
雙盤 |
工作盤直徑 |
標配φ254mm帶有磁性轉換盤系統 |
磨盤轉速 |
100-1000轉/分(最大1500轉/分) 轉向正反轉可以切換 |
研磨頭轉速 |
0-100r/min |
制樣時間范圍 |
0-9999s |
加載力范圍 |
30-200N |
加載力方式 |
中心加載 |
樣品夾持器 |
標配φ30mm六個(選配φ40-φ50mm四個,其余可定制) |
電源 |
AC220V,50HZ |
電機功率 |
0.75Kw |
外形尺寸(長*寬*高) |
760 x 730 x 700 |
重量 |
120kg |
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